特灵科技与伊顿联合发布面向数据中心的中压直流参考设计
特灵科技与伊顿今日联合发布一款面向数据中心的中压直流参考设计,称其相比传统低压方案可减少高达80%的铜用量、降低30%安装成本,并将能效提升至多15%。该设计兼容NVIDIA Omniverse DSX蓝图,旨在简化AI数据中心电力、散热与控制的协同部署。

快览要点
- 特灵科技(Trane Technologies)与电力管理企业伊顿(Eaton)今日联合发布一项数据中心参考设计,称其相比传统低压方案可显著削减铜材使用量并降低安装成本。
- 据两家公司新闻稿,该中压设计可将能效提升至多15%,铜用量减少至多80%,安装成本降低30%。该设计兼容NVIDIA Omniverse DSX蓝图(用于AI数据中心),为电力、热管理与数字控制基础设施的规划与交付提供统一方法。
- 两家公司表示,这种协同架构可简化部署流程、降低实施风险,并能够随新兴液冷技术与直流架构的普及而演进。
深度解析
直流系统在数据中心架构中日益普及。由于电力从电网输送至设备层级所需的转换环节少于交流系统,直流在能效方面具备潜在优势,尤其当数据中心规模扩展至数百兆瓦时,这种优势可能更为显著。
“在设施层面生成800伏直流电,并直接输送至800伏直流计算整机柜,可消除冗余转换,提升整体电力效率,”NVIDIA在一篇开发者博客中表示。“该架构支持高密度GPU集群,释放每颗GPU的更高性能,并允许每个AI工厂部署更多GPU,从而为合作伙伴带来更高的计算吞吐量与收入潜力。同时,它还能确保未来单机柜功率超过1兆瓦时的可扩展性,并实现AI工厂电力生态系统的无缝互操作。”
NVIDIA指出,采用800伏直流电时,相同线规的导线可承载的功率比415伏交流电高出157%,从而减少铜材需求,降低材料与安装成本,并简化线缆管理。
特灵与伊顿表示,考虑到全球数据中心容量预计到2030年将增长近两倍(主要受AI驱动),该参考设计为基础设施扩展提供了一种更具资源效率的路径。
两家公司称,通过将特灵的热管理解决方案与伊顿的电力管理解决方案相结合,数据中心可打破传统的孤岛式架构,从而更动态地响应自身需求。
“AI工厂要求电力、冷却与计算基础设施高度协同,才能实现规模化高效运行,”NVIDIA AI基础设施副总裁Vladimir Troy在声明中表示。“通过与NVIDIA Omniverse DSX蓝图对齐,特灵科技与伊顿正帮助客户降低复杂性,加速下一代AI数据中心的部署。这一新的集成方法为企业提供了所需的稳健、可扩展基础,以释放生成式与推理式AI的全部潜力,并将数据转化为更快、更智能的成果。”